全國服務(wù)熱線
18913268389湯生
18913268389湯生
真空鍍膜使用是真空使用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及外表處理技能等眾多方面有著非常廣泛的使用。為了讓我們更具體的了解真空鍍膜的使用,今天小編具體為大家介紹真空鍍膜使用的主要幾種辦法,希望對大家有用!真空鍍膜加工
真空鍍膜使用,簡單地了解就是在真空環(huán)境下,使用蒸鍍、濺射以及隨后凝聚的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方法,真空鍍膜使用屬于一種干式鍍膜,它的主要辦法包含以下幾種:
真空蒸鍍
其原理是在真空條件下,用蒸騰器加熱帶蒸騰物質(zhì),使其氣化或升華,蒸騰離子流直接射向基片,并在基片上堆積分出固態(tài)薄膜的技能。
濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激起輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛堆積到基片上構(gòu)成膜層。
離子鍍膜
即干式螺桿真空泵廠家現(xiàn)已介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技能基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,因此兼有兩者的工藝特色。在真空條件下,使用氣體放電使工作氣體或被蒸騰物質(zhì)(膜材)部別離化,并在離子炮擊下,將蒸騰物或其反響物堆積在基片外表。在膜的構(gòu)成過程中,基片一直遭到高能粒子的炮擊,非常清潔。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種使用物理氣相堆積的辦法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技能,以完成柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理氣相堆積技能使用(PVD)。
接下來是化學(xué)氣相堆積(CVD)。它是以化學(xué)反響的方法制造薄膜,原理是一定溫度下,將含有制膜材料的反響氣體通到基片上并被吸附,在基片上發(fā)生化學(xué)反響構(gòu)成核,隨后反響生成物脫離基片外表不斷擴(kuò)散構(gòu)成薄膜。
束流堆積鍍,結(jié)合了離子注入與氣相堆積鍍膜技能的離子外表復(fù)合處理技能,是一種使用離化的粒子作為蒸鍍資料,在比較低的基片溫度下,構(gòu)成具有良好特性薄膜的技能。
189-1326-8389 在線咨詢
工藝定制 | 方案報(bào)價(jià) | pvd咨詢CopyRight 2019 All Right Reserved 蘇州志天納米科技有限公司 蘇ICP備20032692號-1