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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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上海PVD技術(shù)的混合運(yùn)用以及研究進(jìn)展

時(shí)間:2022-05-19    點(diǎn)擊數(shù):

各種沉積手段的混合運(yùn)用也是上海PVD技術(shù)的最新進(jìn)展之一,經(jīng)過(guò)多種粒子源的組合運(yùn)用,可以消除單一沉積手段的缺點(diǎn),獲得良好的效果,如在離子鍍中,采用脈沖激光作為蒸發(fā)源,而后對(duì)蒸氣進(jìn)行等離子體化,加上偏壓,這樣既可以提高沉積效率,又可以改善沉積粒子的活性,提高沉積能量。在蒸鍍中,采用熱絲電子發(fā)射,使蒸氣原子離化,就可以對(duì)基片加上偏壓,獲得具有轟擊效果的沉積膜層。

真空陰極電弧和磁控濺射技術(shù)組合沉積技術(shù),也是近年來(lái)實(shí)際應(yīng)用到工業(yè)生產(chǎn)中的一種復(fù)合技術(shù)。等離子體的引入,可以同時(shí)對(duì)濺射中的原子進(jìn)行離化;同時(shí),濺射又可以輔助電弧沉積的穩(wěn)定性。

由于應(yīng)用對(duì)象的不斷擴(kuò)展,PVD處理的材料由原來(lái)的刀具等硬質(zhì)合金材料不斷向中低合金鋼、??h鋼,乃至有色金屬等材料類(lèi)型擴(kuò)展。為保證PVD表面處理后被處理件整體的性能不下降,降低PVD處理溫度,在較低的溫度下獲得性能優(yōu)良的沉積層,已成為PVD技術(shù)研究的一個(gè)主要問(wèn)題。

磁控濺射是PVD技術(shù)中低溫沉積最有效的方法。磁控濺射時(shí),電子被暗場(chǎng)罩或?qū)iT(mén)附加的陽(yáng)極吸收掉,得到基體的溫度比傳統(tǒng)濺射的要低,通過(guò)一些特殊的手段可以使基體的溫度降至接近室溫,可使塑料或其他溫度敏感材料作為基體進(jìn)行沉積處理。1998年Teel Coating Ltd.提出了在低溫下采用磁控濺射沉積高質(zhì)量TiN、TiCN鍍層的技術(shù),基體溫度可降至低于70℃,從而擴(kuò)大了類(lèi)似鍍層可能應(yīng)用的范圍。英國(guó)的Loughborough大學(xué)近年來(lái)成功地在室溫條件下使磁控濺射過(guò)程中的基體溫度從350~500℃降低到150℃左右,并成功地將TiN、CrN涂層用于人工牙齒模具表面和銅焊接觸頭表面,提高了其使用壽命5~10倍??梢钥闯?,低溫沉積方法及工藝研究是非常有意義的,也是很有前途的。

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